반도체 EUV / 노광 장비 소재 관련주 TOP7
EUV란 반도체 포토공정에서 극자외선 파장의 광원을 사용하는 리소그래피 기술이날 이를 활용한 제조공정을 말합니다.
반도체 칩을 생산할 때 웨이퍼는 감광물질로 코팅이 되고 포토공정 설비인 스캐너로 들어가게 됩니다. 또한 해당 설비 내 회로 패턴을 새기기 위해 레이저 광원을 웨이퍼에 투사하는 노광 작업을 진행합니다.
이렇게 해서 반도체 칩 안에 현미경으로 확인할 수 있는 미세한 회로소자를 형성하게 됩니다. 이 과정을 거쳐야만 트랜지스터와 콘덴서 등 소자들을 웨이퍼 공간에 더 많이 집적하고, 성능과 전력효율 또한 높일 수 있습니다.
오늘은 반도체 노광 공정 EUV 관련주 일곱 종목에 대해서 알아보겠습니다.
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반도체 전공정 장비 관련주
반도체 후공정 장비 관련주
반도체 노광 공정 EUV 소재 관련주
글 목차
에프에스티
기업 설명
◼ 1987년에 설립되어 반도체 및 디스플레이 공정 중 포토마스크 보호막인 펠리클(Pellicle) 및 반도체 제조장비의 온도를 조절하는 칠러(Chiller)장비 제조업을 영위할 목적으로 설립되었으며, 경기도 오산시에 펠리클 제조설비, 경기도 화성시에 칠러장비 제조설비를 두고 있습니다. 2000년 01월 18일 코스닥 시장에 상장되었습니다.
어떤 사업을 하나요?
◼ 반도체 펠리클 (반도체 제조시 노광 공정에서 포토마스크를 이물질로부터 보호하기 위해 사용되는 부품) 사업 등 펠리클 사업
◼ 반도체 칠러( 반도체 및 디스플레이 공정에서 챔버 내의 온도조건을 안정적으로 제어하는 온도조절장비 및 반도체 공정 장비) 장비 사업
종목 상세 정보
관련주로 포함된 이유는?
반도체 재료/장비 전문업체. 포토마스크용 보호막인 펠리클(Pellicle)과 반도체공정중 온도조절장비인 칠러(Chiller)를 주력으로 생산. 펠리클은 노광 공정시 사용되는 부품임.
에스앤에스텍
기업 설명
◼ 반도체용 및 디스플레이용 블랭크 마스크 제조 및 판매를 주 영업목적으로 2001년 02월 22일 설립되었습니다. 또한 2009년 4월 14일에 발행 주식을 한국거래소가 개설하는 코스닥증권시장에 상장한 주권상장법인입니다.
어떤 사업을 하나요?
◼ 블랭크 마스크(반도체 및 디스플레이용 포토마스크 제조를 위한 원재료)사업
◼ 신기술사업금융업 및 바이오 과학 기술서비스 컨설팅업
종목 상세 정보
관련주로 포함된 이유는?
블랭크 마스크 제조. 블랭크마스크는 반도체 및 LCD, OLED 노광 공정의 핵심재료인 포토마스크의 원재료임.포토마스크를 보호하는 필름인 펠리클 공장에 200억원 투입
동진쎄미켐
기업 설명
◼ 1973년 7월에 법인설립되어 반도체 및 TFT-LCD 의 노광공정에 사용되는 Photoresist 관련 전자재료사업과 산업용 기초소재인 발포제사업을 주로 영위하고 있습니다. 인천광역시 서구 백범로에 본점 및 경기도 화성시, 경기도 시흥시, 충청북도 음성군에 제조시설을 가지고 있으며 중국, 대만, 스웨덴 및 미국 등에 현지법인을 두고있습니다. 1999년 12월에 회사의 주식을 코스닥증권시장에 상장시켰습니다.
어떤 사업을 하나요?
◼ 국내전자재료(감광액(Photoresist): 설계된 반도체 회로를 웨이퍼 위에 전사시킬 때 빛의 조사여부에 따라 달리 감응함으로서 미세회로 패턴을 형성할 수 있도록 하는 노광공정용 감광재료로 반도체 Chip 및 TFT-LCD 등에 사용, Wet chemical : 노광공정 후에 감광층 등을 박리, 식각, 세척 등에 사용되는 화학제품) 사업
◼ 국내 발표제 및 정제유 사업
◼ 해외전자재료 및 발표제 사업
종목 상세 정보
관련주로 포함된 이유는?
감광액, 발포제 생산/판매. 반도체 및 평판디스플레이 등의 노광공정에 사용되는 감광액(Photo Resist) 관련 전자재료사업을 영위.
디엔에프
기업 설명
◼ 반도체 소자 형성용 박막 재료 전문기업으로 2001년 1월 5일에 설립되었습니다. 또한, 2007년 11월 14일에 코스닥시장 상장을 승인 받아 회사의 주식이 2007년 11월 16일자로 상장되어 코스닥시장에서 매매가 개시되었습니다.
어떤 사업을 하나요?
◼ 반도체( DPT 제품, HCDS 제품LT(Low-temp) SiO/SiN용 소재, 캐패시터 유전막용 소재, 식각공정에 사용되는 하드마스크필름용 소재, 확산방지막용의 소재) 사업
◼ 나노 및 기능성 코팅 재료 사업
◼ 광통신 소자 및 재료 사업
종목 상세 정보
관련주로 포함된 이유는?
반도체 소자 형성용 박막 재료 생산. 반도체 메모리 소자 및 디스플레이 산업의 핵심소재로 사용되는 유기금속화합물(ALD/CVD 전구체)을 개발/제조/판매/기술지원. 특히, Double Patterning Tech. 소재로 사용되는 DPT 제품과 캐패시터 유전막용 소재인 High-k 제품, LT(Low-temp)Sio/Sin용 소재인 HCDS 제품, 식각공정에 사용되는 하드마스크필름용 소재인 ACL 제품 등을 주요 제품으로 생산. 디엔에프의 신규 소재 건식 EUV 포토레지스트는 노광 해상력을 높여 웨이퍼의 수율과 생산성 향상.
파크시스템스
기업 설명
◼ 첨단 나노계측장비인 원자현미경(Atomic Force Microscope)을 개발, 생산하여 전 세계에 판매하는 기술벤처기업으로 설립일은 1997년 4월 7일 입니다. 2015년 12월 17일 코스닥 시장에 상장되었습니다.
어떤 사업을 하나요?
◼ 연구용 나노계측(분석) 장비 사업
◼ 산업용 나노계측(분석) 장비 사업
종목 상세 정보
관련주로 포함된 이유는?
파크시스템스가 생산하는 원자현미경은 반도체 극자외선 노광 공정에서 반도체 완성도를 점검. 반도체 노광공정에 활용되는 산업용 원자현미경 시장에서는 60%가량을 점유.
케이씨텍
기업 설명
◼ 2017년 11월 1일을 분할기일로 하여 주식회사 케이씨(구, 주식회사 케이씨텍)로부터 반도체 장비, 소재 및 디스플레이 장비 사업부문이 인적분할되어 설립되었으며, 2017년 12월 5일 한국거래소 유가증권시장에 재상장되었습니다.
어떤 사업을 하나요?
◼ 반도체 장비 및 소재 제조/판매 사업
◼ 디스플레이 장비 및 소재의 제조/판매 사업
종목 상세 정보
관련주로 포함된 이유는?
국내 유일 반도체 연마(CMP) 장비 소재 기업으로 반도체 웨이퍼 표면 연마를 통해 노광 공정의 문제가 없도록 함.
켐트로스
기업 설명
◼ 2006년 3월 7일에 설립되었으며 업종은 화학제품 제조업으로 이차전지전해액첨가제, 반도체공정소재, DISPLAY소재, OLED 소재, 의약소재 및 고분자접착소재를 생산하고 있습니다. 2017년 9월 21일(합병등기일)에 케이프이에스기업인수목적 주식회사와 합병을 완료하였으며, 2017년 10월 11일 한국거래소 코스닥시장에 합병신주를 상장하였습니다.
어떤 사업을 하나요?
◼ 첨단소재( 2차전지 전해액 첨가제, 디스플레이, 반도체 공정, 기능성 첨가제, 원료의약품, 의약중간체) 사업
◼ 융합소재(고분자 접착소재) 사업
종목 상세 정보
관련주로 포함된 이유는?
반도체 포토레지스트 핵심소재인 '광개시제' 생산. 포토레지스트는 빛에 노출됨으로써 약품에 대한 내성이 변화하는 고분자 재료임. 반도체 공정에서 웨이퍼에 코팅돼 감광제 역할을 하는, 반도체 노광공정의 핵심 소재.
관련주 총정리
반도체 전공정 노광 소재 관련주로는 에프에스티, 에스앤에스텍, 동진쎄미켐, 디엔애프, 파크시스템스, 케이씨텍, 켐트로스 등이 있습니다. 이외에도 켐트로닉스, 디바이스이엔지 등이 있습니다.
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